Examinando por Autor "Aguirre Shupingahua, Yaritza Albina"

Seleccione resultados tecleando las primeras letras
Mostrando 1 - 1 de 1
  • Miniatura
    PublicaciónAcceso abierto
    Influencia del tiempo de exposición y distancia de fotocurado en la microdureza de dos resinas compuestas, in vitro 2025
    (Universidad Privada Norbert Wiener, 2025-12-17) Aguirre Shupingahua, Yaritza Albina; Morante Maturana, Sara Angelica
    La investigación tuvo como objetivo analizar la Influencia del tiempo de exposición y distancia de fotocurado en la microdureza de dos resinas compuestas, in vitro. El diseño del estudio fue experimental, longitudinal, y prospectivo. La muestra se conformó de 60 discos de resina, divididos en cuatro grupos: Grupo I: 30 discos de resina Bulk Fill, Grupo II: 30 discos Filtek™ Z350 XT (3M ESPE). La combinación experimental incluyó dos momentos de exposición de veinte y cuarenta segundos, con uso de tres proximidades de 0, 2 y 4 mm a la fuente de luz respecto a la resina, luego se midió la microdureza. En el análisis estadístico se utilizó la prueba de U de Mann Whitney (p=0.009) y la Prueba de Kruskal.Wallis (p=0.016). Los resultados indicaron que la influencia del tiempo de exposición y distancia de fotocurado en la microdureza de dos resinas compuestas, respecto al tiempo, a los 20 segundos se presenta una media igual a 55.727, a los 40 segundos presenta una media de 56.04; en cuanto a la distancia, se obtuvo que a 0 milímetros presenta una media igual a 58.045, a los 2 milímetros una media de 56.28, y a 4 milímetros una media de 53.325, mediana igual a 48.95. Se concluyó indicando que los resultados no mostraron diferencias significativas en la microdureza de las resinas Bulk Fill y Filtek™ Z350 XT con tiempos de exposición de 20 y 40 segundos, y a a medida que aumentaba la distancia de fotocurado, la microdureza de la resina Filtek™ Z350 XT disminuía.