Examinando por Autor "Malca Becerra, Melanny Nicole"
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Publicación Acceso abierto Efecto de dos longitudes de onda de luz sobre la estabilidad cromática de dos resinas compuestas in vitro, Lima 2025(Universidad Privada Norbert Wiener, 2026-07-16) Malca Becerra, Melanny Nicole; Morante Maturana, Sara AngelicaEl objetivo del presente estudio fue evaluar el efecto de dos longitudes de onda de luz sobre la estabilidad cromática de una resina compuesta in vitro, Lima 2025. Se empleó una metodología con diseño experimental, de corte longitudinal con enfoque cuantitativo. La muestra se determinado por criterio con un total de 80 discos de resina, 40 de la resina compuesta Filtek™ Z350 XT (3M ESPE) y 40 de la resina 3M Filtek One Bulk Fill Restorative subdivididos en 04 grupos con exposición a onda media y onda corta a los 20 y 40 segundos respectivamente. La distancia entre la lámpara y las muestras fue constante, a 1 mm, para evitar cualquier variabilidad en la intensidad de la luz. Los valores de color obtenidos después del fotocurado se compararán con los valores antes del fotocurado, lo que proporcionó información precisa sobre el cambio en la tonalidad de color y, por lo tanto, sobre la estabilidad cromática de la resina bajo las diferentes fuentes de luz. El análisis estadístico incluyó La prueba T de Student se empleó para comparar las medias de los cuatro grupos y determinar si existieron diferencias significativas entre ellos (p<0,05), usando el programa SPSS y una confiabilidad del 95%. Los resultados obtenidos fueron respecto a la longitud de onda tipo monowave la resina Filtek™ Z350 XT presentó una media igual a 1.465, desviación estándar de 0.5896, la resinas Filtek™ One Bulk Fill con una media igual a 2.335, desviación estándar de 0.5402; al emplear longitud de onda tipo poliwave la resina Filtek™ Z350 XT presentó una media igual a 2.000, desviación estándar de 0.6529, la resinas Filtek™ One Bulk Fill con una media igual a 2.085, desviación estándar de 0.4682. Se concluyó que la longitud de onda de la luz de fotopolimerización influye en la estabilidad cromática de las resinas compuestas evaluadas, siendo para el tipo monowave (0,000) y para poliwave (0639).
