Identificación de ácido hipúrico y fenoles en orina de trabajadores con exposición laboral de imprentas del Centro Comercial Lima, Cercado de Lima

Abstract

In this study, we identified the levels of phenols and hippuric acid in the urine of 40 workers employed in printing presses in Cercado de Lima. These workers frequently use organic solvents such as benzene and toluene in concentrations ranging from 1% to 3%. The quantification of total phenols was performed using the spectrophotometric method of Banfi and Marenzi, and hippuric acid was quantified using the Weichselbaum and Probstein titration method. The average of total phenols found was 222.35 mg/L, and hippuric acid was 2.048 g/L. These values indicate exposure to both benzene and toluene, as they exceed the reference values in urine given by the WHO (75 mg/L for phenols and 0.4 to 1.4 g/L for hippuric acid). The toxicological studies were conducted in the toxicology and legal chemistry laboratory of the Faculty of Pharmacy and Biochemistry at Norbert Wiener University.

En el presente trabajo realizamos la identificación de los niveles de fenoles y acido hipúrico en orina de cuarenta trabajadores que laboran en las imprentas del Cercado de Lima quienes utilizan frecuentemente los solventes orgánicos tales como benceno y tolueno en concentraciones que van de 1% a 3%. La cuantificación de fenoles totales y ácido hipúrico fue realizada por el método espectrofotométrico de Banfi y Marenzi y por el método de titulación de Weichselbaum y Probstein respectivamente. El promedio de fenoles totales hallados es de 222,35 mg/L y de ácido hipúrico es de 2.048 g/L. Estos valores nos indican exposición tanto para el benceno como para el tolueno ya que superan valores referenciales en orina, dadas por la OMS, 75mg/L para fenoles y es de 0.4 a 1.4 g/L para ácido hipúrico. Los estudios toxicológicos se realizaron en el laboratorio de toxicología y química legal de la Facultad de Farmacia y Bioquímica de la Universidad Norbert Wiener.